等離子清洗機(jī)的應(yīng)用，起源于20世紀(jì)初，隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，其應(yīng)用越來越廣，目前已在眾多高科技領(lǐng)域中，居于關(guān)鍵技術(shù)的地位，等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響很大，首推電子資訊工業(yè)，尤其是在半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

       等離子清洗機(jī)在工業(yè)清洗設(shè)備中的應(yīng)用現(xiàn)狀等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造，可以確信，沒有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)，就沒有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外，等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測工業(yè)上，而且是產(chǎn)品提(升)的關(guān)鍵技術(shù)、比如說光學(xué)元件的鍍膜、延長模具或加工工具壽命的抗磨耗層，復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測器的智造，超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步，才能開發(fā)完成。

       等離子清洗機(jī)在工業(yè)清洗設(shè)備中的應(yīng)用現(xiàn)狀等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域，該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng)，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領(lǐng)域，包括化工、材料和電機(jī)，因此將極(具)挑戰(zhàn)性，也充滿機(jī)會(huì)，由于半導(dǎo)體和光電材料在未來得快速發(fā)展中離不開等離子清洗。
       表面清洗可被定義為是一種去除吸附在表面的外來的非不可或缺材料的清潔過程，非不可或缺材料可能會(huì)對(duì)產(chǎn)品的工藝流程和性能造成負(fù)面影響。在先進(jìn)制造領(lǐng)域，清洗是不可缺少的工藝步驟。在工業(yè)清洗中，要在盡可能少的花費(fèi)和對(duì)環(huán)境影響盡可能小的前提下，將工件表面多余的材料去除掉。需要清洗的領(lǐng)域有金屬加工和機(jī)器運(yùn)作，工具的表面改性、電子工業(yè)、珠寶表面、塑料和玻璃表面、光學(xué)器件和醫(yī)用器械的表面清潔等，每個(gè)領(lǐng)域的清洗程序都有特定的清洗工藝，隨著科技的發(fā)展，自動(dòng)化清洗設(shè)備的出現(xiàn)，清洗也向著更高(效)快捷的方向房展。