以下以氧氣plasma等離子體去除物體表面的油污為例，說明這些功能。通過分析可以看出，plasma等離子體對油污的作用與使油污發(fā)生燃燒反應(yīng)相似；但不同之處在于，它是在低溫條件下發(fā)生的燃燒。氧等離子體中的氧原子自由基、激發(fā)狀態(tài)的氧分子、電子和紫外線的共同作用下將其氧化成水和二氧化碳分子，并將其從物體表面去除。

     可見，用plasma等離子體去除油污的過程是一種使有（機(jī)）大分子逐漸降解的過程，形成的是H2O和CO2小分子，這些小分子以氣體的形式被去除。另一個(gè)特征是，等離子體清洗后，物體已經(jīng)全部干燥。經(jīng)plasma等離子體處理的物體表面常形成許多新的活性基團(tuán)，使物體表面（活）化，從而改變其性能，可大大提高其浸潤性和粘附性，這對許多材料很重要。所以等離子清洗有很多濕法清洗所不能與溶劑相比的優(yōu)點(diǎn)。

       電漿清洗機(jī)由真空室，真空泵，高頻電源，電極，氣體輸入系統(tǒng)，產(chǎn)品輸送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)組成。整個(gè)清潔過程大致如下；
1.plasma等離子體清洗過的產(chǎn)品送入真空并固定，啟動運(yùn)行裝置，開始排氣，使真空室的真空度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間幾分鐘左右；
2.將等離子清洗用氣體引入真空室，保持室內(nèi)壓力穩(wěn)定。根據(jù)清洗材料的不同，氧氣、氬氣、氫氣、氮?dú)狻F4等氣體可以結(jié)合使用；
3.電極與接地裝置在真空室中施加高頻電壓，使氣體被擊穿，并由輝光放電產(chǎn)生等離子體，使真空室內(nèi)產(chǎn)生的等離子體全部覆蓋處理過的產(chǎn)品，開始清洗作業(yè)。一般的清洗過程可持續(xù)數(shù)十秒到數(shù)十分鐘；
4.清潔后切斷電源，通過真空泵排出氣體和氣化污垢。
         大家對plasma等離子體去除物體表面的油污是不是更清楚了。