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20年專注等離子清洗機研發(fā)生產廠家
半導體等離子蝕刻機在真空環(huán)境下的原理優(yōu)勢: 在光刻技術中，半導體表面會出現殘膠，這就需要一個好的方法進行處理，將殘膠清除的同時不會對產品造成損傷，等離子蝕刻機就是這樣的一個設備...
發(fā)布時間:2023-07-17
一、CRF超低溫plasma清潔技術簡述超低溫plasma清理是一種應用廣泛的表面處理工藝，其根據使用帶有活力物種等離子來消除殘渣、有機化合物和二氧化硅等表層污染物質。與傳統(tǒng)持續(xù)高溫化學物理清潔方法對比，超低溫plasm...
發(fā)布時間:2023-07-12
線路板等離子發(fā)生器的應用相當普遍： 在制作印刷線路板的過程中，特別是高密度互連板，需進行孔型金屬化處理，利用金屬化的孔來實現層間的電氣導通。激光孔或機械孔鉆孔經常出現殘余物附...
發(fā)布時間:2023-07-07
低溫等離子體清理能夠實現的功能的1種,改善纖維或織物的吸濕、潤濕性： 使用低溫等離子體中處于激發(fā)態(tài)的各類高能粒子的物理刻蝕和化學反應,或者利用等離子體的接枝、聚合沉積等方式,可在紡織品...
發(fā)布時間:2023-06-29
CRF電漿清洗機處理法對聚碳酸酯材料表面改性原理 CRF電漿清洗機對PC聚碳酸酯的表面改性是指利用等離子體與材料表面的相互作用，在表面上形成新的官能團和改變聚合物鏈結構，改善親水性、...
發(fā)布時間:2023-06-24
