20年專(zhuān)注等離子清洗機(jī)研發(fā)生產(chǎn)廠家
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等離子表面處理技術(shù)是一個(gè)穩(wěn)定而高效的過(guò)程。由于等離子體的高能，材料表層上的化學(xué)物質(zhì)或有機(jī)污染物能被分解掉，所有可能粘附的雜質(zhì)都能有效地去除，從而使材料表層達(dá)到下一步的涂裝工...
發(fā)布時(shí)間:2021-09-01
過(guò)去的干法清洗對(duì)比plasma清洗是沒(méi)有辦法達(dá)到其表面改性的效(果)， 近幾年來(lái)，我國(guó)經(jīng)濟(jì)高速增長(zhǎng)，人民收入同步上升，但當(dāng)我們回顧周?chē)纳姝h(huán)境時(shí)，突然發(fā)現(xiàn)早已面目全非，曾經(jīng)的藍(lán)天白...
發(fā)布時(shí)間:2021-08-30
? ? ? ?電子行業(yè)制造商用等離子清洗系統(tǒng)進(jìn)行去污和活化材料表面有機(jī)污染物，提升產(chǎn)品疏水性。對(duì)許多產(chǎn)品，不論它們是應(yīng)用于工業(yè)、電子、航空、還是醫(yī)療器械等行業(yè)，物體之間的粘接性和親水性尤...
發(fā)布時(shí)間:2021-08-28
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展，由于其固有的局限性，濕法刻蝕逐漸限制了其發(fā)展，因?yàn)樗巡荒軡M(mǎn)足具有微米甚至納米級(jí)細(xì)線的超大規(guī)模集成電路的加工要求。晶片等離子體刻蝕機(jī)的干法刻蝕方法因其...
發(fā)布時(shí)間:2021-08-27
等離子表面活化機(jī)是如何解決工業(yè)材質(zhì)上表面附著力不強(qiáng)的問(wèn)題，工業(yè)應(yīng)用中發(fā)現(xiàn)，有些橡膠塑件在不經(jīng)過(guò)等離子表面活化機(jī)處理的狀態(tài)下，印刷、粘合、涂覆等效(果)差，那些橡膠和塑料材料在...
發(fā)布時(shí)間:2021-08-25
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